作品名称:《秀场幕后的瞬间》插画

作者：何宁; 周奕; 刘安定^*

来源：上海纺织科技, 2019, 47(01): 103.

DOI：10.16549/j.cnki.issn.1001-2044.2019.01.073

• 品牌服装

<正>设计说明:本作品的灵感来源于品牌服装走秀。秀场上模特身着各种品牌服装,迈着富有节奏感的步伐,快速的向人们展示其着装效果。而幕后的场景则千姿百态。作品选自某一个瞬间,两位模特好友已画好妆,随意拍照。她们表情娇俏可人与台前表现完全不同。作品采用插画的形式,同时结合电脑软件进行绘制,弱化模特服装与脸型,强化其妆容与头饰的绘制,以此展现出模特的娇媚及服装中的饰品之美。

• 单位
  武汉纺织大学