气相沉积技术制备6.5wt%Si高硅钢的研究进展

作者:秦卓; 吴隽; 魏海东; 姚珏
来源:热加工工艺, 2015, 44(20): 7-18.
DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.2015.20.002

摘要

综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望。

全文