登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
气相沉积技术制备6.5wt%Si高硅钢的研究进展
作者:秦卓; 吴隽; 魏海东; 姚珏
来源:
热加工工艺
, 2015, 44(20): 7-18.
DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.2015.20.002
6.5%Si高硅钢
气相沉积技术
制备工艺
摘要
综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望。
单位
兰州兰石能源装备工程研究院有限公司;
武汉科技大学
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献