高光泽度的硅酸腐片制备研究

作者：由佰玲^*; 孙希凯; 邓春星; 周迎朝; 董楠; 原宇乐; 谢艳

来源：机车电传动, 2021, (05): 138-141.

DOI：10.13890/j.issn.1000-128x.2021.05.022

• 酸腐片
• 旋转磨削
• 移除量
• 损伤层
• 反射率

为提高酸腐片光泽度和实现稳定量产,通过优化硅单晶片加工流程,将双面研磨硅片进行旋转磨削加工,然后对该硅片进行酸性腐蚀;制备的酸腐片表面光泽度达到360 Gu以上(反射率大于98%),腐蚀液的寿命延长到50 000片;该制备技术使得酸腐片的应用领域得到拓展,并降低生产成本和提高生产效率。