不同本底真空制备的Yb/Al多层膜结构和反射率研究

作者：肖两省; 齐润泽^*; 来搏; 黄秋实; 吴佳莉; 余越; 辛子华^*

来源：光子学报, 2021, 50(11): 279-286.

• 紫外辐射
• 真空沉积
• 多层膜
• 反射
• 磁控溅射

为研究本底真空对Yb/Al多层膜微结构和光学性能的影响,使用直流磁控溅射设备,在本底真空度分别为4×10-5Pa、8×10-5Pa、1×10-4Pa、2×10-4Pa和4×10-4Pa条件下,制备了一组结构相同的SiC/(Yb/Al)3周期多层膜。使用X射线掠入射反射、原子力显微镜及大角X射线衍射等方法表征了样品表面和内部结构,结果表明:当本底真空度从4×10-4Pa提高至4×10-5Pa时,Yb/Al多层膜的平均界面宽度从2.15 nm减小到1.82 nm;表面粗糙度从1.87 nm减小到1.43 nm;膜层内有Yb、Yb2O3和Al结晶,结晶尺寸随真空度略有增加。SiC/(Yb/Al)3周期多层膜为张应力,当本底真空度从4×10-4Pa提升至4×10-5Pa时,应力从85 MPa增大到142 MPa。测试了本底真空度为4×10-5Pa时制备的多层膜样品的反射率,在波长为73.6 nm、入射角为5°时,反射率为31.3%。

• 单位
  同济大学; 上海大学