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摘要
本发明公开了一种柔性透明多层电极及其室温制备方法与应用。其制备方法是将功函数较大的半导体层通过磁控溅射工艺沉积于基板上；将功函数较小的金属电极层通过磁控溅射工艺沉积于上述半导体层上；通过磁控溅射工艺沉积同种半导体层于上述金属电极层上。本发明利用功函数差使得金属电极电子向半导体转移形成导电层,使得透明的金属氧化物半导体形成高导层,且仅需要10nm左右的厚度,电阻率仅为20.3μΩ·cm,可见光波段内透过率可达75％。另外由于厚度极薄且非晶,该结构的透明电极具备很好的柔性性能,在静态弯折和动态弯折的测试中,具备良好的稳定性。该结构电极为透明柔性显示的发展提供了巨大的前景。
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