Hf0.5Zr0.5O2基铁电电容器的特性研究

作者：王健健; 白华^*; 许高博; 李梅; 毕津顺

来源：微电子学, 2019, 49(03): 418-426.

DOI：10.13911/j.cnki.1004-3365.180323

• 铪锆氧
• 铁电电容
• 机械夹持
• 剩余极化强度
• 矫顽电压

利用原子层淀积工艺制备了9 nm厚的铪锆氧(Hf0.5Zr0.5O2)铁电薄膜。通过淀积TiN顶/底电极形成Hf0.5Zr0.5O2铁电电容,研究退火工艺和机械夹持工艺对铁电电容性能的影响。实验结果表明,极化强度-电压曲线为电滞回线形,双倍剩余极化强度达31.7μC/cm2,矫顽电压约为1.6 V,电学性能明显提高。在150℃高温下,Hf0.5Zr0.5O2基铁电电容器的电学性能仍然良好,证明了退火工艺和机械夹持工艺对电学性能的优化作用。

• 单位
  中国科学院微电子研究所; 天津工业大学