基于0.18μm CMOS加固工艺的抗辐射单元库开发

作者:姚进; 左玲玲; 周晓彬; 刘谆; 周昕杰
来源:电子与封装, 2021, 21(08): 68-73.
DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0817

摘要

抗辐射单元库是快速完成抗辐射数字电路设计的基础。基于0.18μm CMOS加固工艺总剂量及单粒子效应加固策略,从单元库规格制定、逻辑与版图设计、单元库特征参数提取及布局布线文件抽取、单元库设计套件质量保证到最终硅验证,完成了抗辐射单元库的全流程开发。抗辐射单元库在速度、面积、功耗及抗辐射性能4个方面表现出良好的均衡性,具有广泛的应用前景。