常压/低压一体化CVD生长系统的设计与应用

作者：李艳平; 徐万劲

来源：实验室研究与探索, 2023, 42(04): 1-20.

DOI：10.19927/j.cnki.syyt.2023.04.001

• 半导体纳米材料
• 化学气相沉积
• 管式生长炉
• 二维材料

为了实现半导体纳米材料的高效安全制备，结合不同材料的生长要求，设计并搭建了一套常压/低压一体化CVD生长系统。该生长系统主要由管式生长炉、配气单元和尾气回收处理单元三部分构成。系统配置单温区、双温区和三温区管式炉，采用机械泵/分子泵与高精度真空计准确调控管内压强，可实现不同压强条件下多种半导体纳米材料的高效制备；安装了可燃气体自动探测、报警、断气一体化装置，增加了阻火防燃、泄气防爆等装置，可有效提高系统的安全性。该生长系统具有操作简单、功能多样、安全可靠等优点，应用此系统已成功生长出二十余种高质量的新型半导体纳米材料，取得了一系列重要学术成果。