科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
在给定的电镀液组分下,对掩模电镀微结构的厚度均匀性及镀层横截面轮廓进行了研究,讨论了影响微结构镀层厚度均匀性的主要因素,分析了镀层横截面轮廓随电流密度的改变而变化的原因。电镀液中无添加剂时,镀层均匀性与阴极极化度及电镀边缘效应直接相关;电镀液中有添加剂时,本实验所使用添加剂所具有的并存吸附状态是影响镀层均匀性的主要因素。通过实验得到可获得良好均匀性镀层的电镀参数为:i=(6±2)mA/cm2,t=25℃。
-
单位中国科学院研究生院; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 应用光学国家重点实验室
