基于干法刻蚀技术的氮化镓MEMS加工工艺(英文)

作者：杨振川; 吕佳楠; 闫桂珍; 陈敬

来源：纳米技术与精密工程, 2011, (01): 78-82.

• 干法刻蚀
• 氮化镓(GaN)
• MEMS dry etching
• gallium nitride(GaN)
• MEMS

氮化镓(GaN)材料已成功应用于光电子器件、高频功率器件等领域.近年来,由于GaN优异的材料特性,例如机械、热、化学稳定性以及生物兼容性等,使基于GaN的微机电系统(MEMS)得到了学术界的广泛关注.针对氮化镓MEMS结构的有效的图形化及释放技术是工艺研究的重点.设计、采用了一种全干法刻蚀技术,实现了(111)晶向硅衬底上的氮化镓基MEMS微结构的加工制造.利用提出的工艺方案,实现了多种悬浮GaN微结构的加工与测试表征实验.通过电子扫描显微镜(SEM)和光学轮廓仪进行了基本形貌表征;利用微拉曼光谱实验进行了加工结构的残余应力表征.

• 单位
  北京大学; 香港科技大学