RRC(Reducing Resist Consumption)在工艺涂覆过程中，经常用作光刻胶溶剂，用来减少光刻胶的使用量，还可以降低光刻胶中包含的微观气泡数量，对后续的显影、刻蚀等工艺具有明显的优化作用。现阶段常用的RRC涂覆方式有两种：一种称为静态RRC，即衬底静止不动；一种称为动态RRC，即衬底以一定速度旋转。通过几组工艺实验，简单对比了静态RRC与动态RRC的工艺效果，以供大家在以后的工艺制程中进行选择和分析使用。
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