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摘要
针对弧面玻璃屏扫光工艺中出现的划伤、白点、台阶、未扫透等系列问题,从扫光机结构、工作原理以及现场反映问题出发,分析了导致扫光良率不高的因素。对扫光机上盘结构进行优化,同时对比原设计与优化后的上盘结构的数值计算结果。优化后,上盘最大变形量由0. 014 4 mm降低到0. 008 0 mm,且弧面玻璃屏受力变形量趋于平稳,提高了扫光盘工况下平面度;并且优化后的真空吸盘加工工艺性能提高,工序复杂度降低,加工成本降低。扫光实验数据表明:上盘结构优化后,将在一定程度上提高良品率。
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单位萍乡学院; 电子工程学院
