高深宽比微细结构紫外光固化-脱模工艺建模与分析

作者：吴昊; 易培云; 彭林法; 来新民^*

来源：上海交通大学学报, 2018, 52(12): 1603-1608.

DOI：10.16183/j.cnki.jsjtu.2018.12.009

• 高深宽比
• 卷对卷
• 固化-脱模
• 结构缺陷

针对高深宽比结构的脱模问题,利用压缩试验获得了材料的力学性能,并用Ogden模型对其进行描述,建立了卷对卷紫外光(UV)固化-脱模工艺过程的有限元模型.分析了光照时长、残余层厚度、微结构深宽比以及结构间隙等参数对脱模最大应力的影响规律.结果表明:在结构深宽比为4∶1时,界面粘接力是导致脱模缺陷的主要原因;光照时长越长,残余层厚度越薄;微结构深宽比越小以及结构间隙越大,固化-脱模应力越小、越有利于脱模.

• 单位
  机械系统与振动国家重点实验室; 上海交通大学