微弧氧化是一种多参数耦合控制的表面处理技术，其设备电源的性能决定着能量参数，是制约微弧氧化电源技术发展的关键因素。在控制算法方面，可以实现电源系统恒压、恒流或恒功率控制，实现对膜层性能参数的预测，通过计算机仿真实现成膜过程和电源拓扑结构研究的模拟。在实际生产中，可以在线分析微弧氧化膜层的制备过程，实现对微弧氧化电源系统的从研发到生产每一个环节的监视监控，有效缩短新工艺和新设备开发周期，降低研究开发成本。
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