EUV光刻技术的发展

作者：本刊编辑部

来源：电子工业专用设备, 2008, 37(10): 20-27.

DOI：10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.004

• 极紫外光刻
• 现状
• 光学系统
• 掩模
• 抗蚀剂
• 22nm技术节点

介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术—极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状,指出了在未来的22nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性。