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摘要
通过分析AgNWs薄膜光子烧结工艺的相关因素,如墨水中高分子有机物配比和光子烧结相关工艺参数。得到适应AgNWs薄膜光子烧结的最佳墨水分散液1. 0 mg/mL HPMC,0. 2 mg/mL海藻酸钠和0. 4 mg/mL CMC; AgNWs薄膜的最佳光子烧结工艺是电压500 V,脉冲时间是275μs和反复21次;烧结后AgNWs薄膜方阻下降15%,均匀性从40%下降到15%。研究表明,AgNWs薄膜经过光子烧结后,电学性能得到优化而光学性能基本保持不变,为其在柔性显示方面的应用奠定了基础。
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单位陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
