微弧氧化制备黑色膜工艺、着色机制及应用的研究现状与展望

作者：田钦文; 吴明忠; 彭书浩; 李慕勤^*; 肖尊涛; 鲁成

来源：材料保护, 2018, 51(07): 115-146.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2018.07.025

• 微弧氧化
• 黑膜
• 着色剂
• 工艺参数

微弧氧化技术应用非常广泛,而微弧氧化黑膜作为一种外观美观、实用性良好的表面改性薄膜备受关注。对微弧氧化制备黑色膜采用的着色盐体系进行了总结。微弧氧化涂层黑度与成色物质的浓度、电流密度、微弧氧化电压以及工作时间等因素有关。未来发展方向是着色剂的科学配比,并实现无毒无污染;制备技术方面要开发低能耗微弧方法和工艺,或将微弧氧化与其他表面技术相结合。

• 单位
  佳木斯大学; 材料学院