外源硅根施对连作基质栽培黄瓜生长生理的影响

作者：吕剑; 郁继华^*; 张国斌; 金宁; 唐中祺; 张婧; 张潇丹

来源：甘肃农业大学学报, 2020, 55(05): 121-135.

DOI：10.13432/j.cnki.jgsau.2020.05.014

• 黄瓜
• 硅
• 连作
• 生长
• 生理

【目的】为探明不同浓度外源硅(Na2SiO3·9H2O)根施对黄瓜连作障碍的缓解效果.【方法】以‘博耐882’的黄瓜种子为试材,取用酒泉连作黄瓜8 a已产生明显连作障碍的基质作为栽培基质,研究不同浓度外源硅根施对黄瓜生长指标(株高、茎粗、叶片数、生物积累量、根系体积及主根长度)和生理指标(叶绿素含量、脯氨酸含量、丙二醛含量及抗氧化酶活性)的影响.【结果】随着外源硅浓度的升高,黄瓜幼苗株高、茎粗、叶片数、地上地下部干鲜质量、根系体积及主根长度均呈现先上升后下降的趋势,且各浓度硅处理的生长指标较CK均有一定程度的增加,其中,以硅处理浓度为0.75 mmol/L的生长指标最优;黄瓜叶片的叶绿素a、叶绿素b、叶绿素a+b及类胡萝卜素含量随着根施外源硅浓度的升高呈先上升后下降的趋势,其中,0.75 mmol/L硅处理较CK的增幅明显,分别为68.7%、63.6%、67.3%和35.6%;黄瓜叶片的丙二醛(MDA)及脯氨酸(Pro)含量随根施外源硅浓度的升高呈先下降后上升的趋势,抗氧化酶活性则呈先上升后下降的趋势,0.75 mmol/L硅处理的MDA、Pro含量较低且抗氧化酶活性最高,说明处理C可有效缓解连作基质栽培对黄瓜造成的氧化胁迫.【结论】外源硅根施可有效缓解黄瓜的连作障碍,且当外源硅处理浓度为0.75 mmol/L时对黄瓜连作障碍的缓解效果最好,以上结果可为黄瓜基质栽培连作障碍的克服提供一定的理论依据.

• 单位
  甘肃农业大学