多场耦合参数对电沉积Ni-TiN纳米镀层性能的影响

作者：夏法锋; 赵旭东; 马廉洁^*

来源：功能材料, 2019, 50(09): 9153-9156.

• 多场耦合
• 电沉积
• Ni-TiN纳米镀层
• 参数

利用多场耦合电沉积技术制备Ni-TiN纳米镀层,获得良好的高硬度、耐磨性好的复合镀层材料。研究多场耦合沉积的主要参数阴极电流密度、超声波功率和磁场强度对显微硬度、耐磨性的影响。结果表明,随镀液中磁场强度、阴极电流密度和超声波功率的增加,Ni-TiN纳米镀层中的显微硬度呈先增加后减小的变化趋势,而镀层的磨损量与之相反。多场耦合电沉积的最优工艺参数组合为阴极电流密度1.5 A/dm2、超声波功率200 W、磁场强度0.6 T。在最佳工艺参数下制备的Ni-TiN纳米镀层表面粗糙程度较小,晶粒较细致,组织均匀度较好。

• 单位
  东北石油大学; 东北大学