沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响

作者：王恩青; 李淼磊; 朱萍; 黄峰; 岳建岭

来源：真空科学与技术学报, 2015, 35(08): 1005-1010.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2015.08.16

• 磁控溅射
• V-Al-Si-N涂层
• 沉积温度
• 生长结构
• 摩擦磨损

采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析。研究结果表明:室温下制备的涂层生长缺陷较多,残余应力较大。适当提高沉积温度至300℃,涂层的晶体结晶性得到提高,柱状晶粗大贯穿整个膜厚,晶粒尺寸变大;继续提高沉积温度至500℃时,涂层呈(200)择优取向,晶粒尺寸变小,涂层致密度提高。随着沉积温度的提高,涂层的硬度略有下降,但是涂层的摩擦学性能得到大幅度提升。500℃制备涂层的硬度为29.7 GPa,磨损率达到6.1×10-17m3/Nm,比室温制备的涂层的磨损率降低了两个数量级。

• 单位
  中南大学; 中国科学院宁波材料技术与工程研究所; 粉末冶金国家重点实验室; 航天学院