正硅酸四乙酯修饰Fe3O4制备磁性有机硅氧氮分离膜及其性能研究

作者：王傲生; 徐积斌; 白云翔; 孙余凭; 张春芳^*

来源：化工新型材料, 2020, 48(12): 84-88.

DOI：10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2020.12.021

• 聚二甲基硅氧烷
• 磁性有机硅膜
• 界面空隙
• O2/N2分离
• 磁场

以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响。结果表明,经TEOS修饰后的Fe3O4与PDMS之间具有良好界面相容性,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的机械性能得到显著提升。与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加;施加外加磁场后,两种磁性膜的O2/N2理想选择性分别提高了16.2%和8.0%。当外加磁场强度为56mT时,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2渗透系数为1483Barrer,O2/N2理想选择性为2.2。

• 单位
  化学与材料工程学院; 江南大学