APC技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展

作者：王巍; 吴志刚

来源：中国集成电路, 2007, (2): 68-71.

DOI：10.3969/j.issn.1681-5289.2007.02.017

• 等离子体刻蚀
• APC
• 实时反馈控制
• Run-to-Run控制

APC是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制.APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高等离子刻蚀机的使用效率和产品成品率,适应当前深亚微米半导体工艺技术发展的需求.针对等离子体刻蚀机及其刻蚀工艺过程控制的需求,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,讨论了APC技术的发展趋势.

• 单位
  电子科技大学; 电子工程学院; 重庆邮电学院