基于正交投影偏最小二乘法对复方首乌藤合剂抗失眠作用的谱效关系研究

作者：曾棋平; 蔡小辉; 吴坤林; 杨丽娜; 曹毅祥; 陈锦珊^*

来源：药学实践杂志, 2019, 37(05): 427-432.

• 复方首乌藤合剂
• 指纹图谱
• 抗失眠
• 谱效关系
• 正交投影偏最小二乘法

目的探讨复方首乌藤合剂抗失眠作用与HPLC指纹图谱间的相关性。方法采用HPLC分析得到不同提取工艺条件下的复方首乌藤合剂指纹图谱;腹腔注射DL-4-氯苯丙氨酸建立大鼠失眠模型,用ELISA法测定大鼠海马体5-HT的含量,采用正交投影偏最小二乘法分析谱效关系。结果从指纹图谱中共确定21个共有峰,12个峰的变量投影重要性(VIP)均>1.0,复方首乌藤合剂指纹图谱中3个色谱峰对抗失眠发挥重要作用。结论复方首乌藤合剂抗失眠作用的物质基础与其所含多种成分共同作用的结果有关,通过谱效关系分析得到复方首乌藤合剂的抗失眠物质基础,可为制剂的质量控制提供实验依据。

• 单位
  厦门大学附属东南医院