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摘要
飞秒光刻辅助化学机械刻蚀技术（photolithography assisted chemo-mechanical etching, PLACE）实现了在薄膜铌酸锂（thin-film lithium niobate, TFLN）上高品质大规模光子集成电路（photonic integrated circuit, PIC）的制造,并推动了光子集成电路重大应用领域的持续发展,产生了一系列高性能PIC应用,诸如高Q微谐振器、低损耗波导、波导放大器、阵列波导光栅（arrayed waveguide grating, AWG）和电光（electro-optic, EO）可调谐/可编程光子器件等.针对PIC器件和光刻系统的大规模生产,本文介绍了一种超高速高分辨率激光光刻制造系统,采用高重复频率飞秒激光器和高速多边形激光扫描仪,可实现200 nm分辨率下4.8 cm2/h的光刻制造效率,并且展示了基于TFLN光子器件的晶圆级制造、晶圆级微电极结构等的应用.
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单位华东师范大学; 中国科学院上海光学精密机械研究所; 强场激光物理国家重点实验室; 上海科技大学
