聚对氨基苯磺酸-MoS2纳米片复合膜修饰玻碳电极溶出伏安法测定Pb2+

作者：李鑫; 邹娜; 王朝霞; 上官伟; 马忠慧; 王学亮

来源：分析试验室, 2020, 39(09): 1075-1079.

DOI：10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2019.121603

• 硝酸铅
• 对氨基苯磺酸
• MoS2纳米片
• 方波溶出伏安法

通过滴涂及电聚合的方式在玻碳电极(GCE)表面制备了二硫化钼(MoS2)-聚对氨基苯磺酸(pABSA)复合膜修饰电极,并通过循环伏安法(CV)和电化学交流阻抗法(EIS)对修饰电极进行了表征。该复合膜对Pb2+具有良好的催化活性,利用方波溶出伏安法(SWSV)对Pb2+在复合膜上的电化学行为进行了研究。在最优条件下,Pb2+的溶出峰电流值与其浓度在0.5 nmol/L～2.5μmol/L的范围内呈良好线性关系,R2=0.9983,检出限为0.1 nmol/L。同时探究了电解质种类、pH、富集时间、富集电位等因素对Pb(NO3)2溶出伏安响应信号的影响。对实际样品进行检测,加标回收率98.6%～101.2%。

• 单位
  化学化工学院; 菏泽学院