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摘要
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）作为一种新的物理气相沉积技术，得到学术界和工业界的广泛关注。HiPIMS中靶峰值能量密度高而平均能量密度低，从而避免了传统磁控溅射中靶过热所导致的靶材融化等问题。独特的放电特性使得HiPIMS具有高等离子体密度和电离率，为控制沉积粒子能量和输运模式提供了可能性，可以实现高质量薄膜的制备。本文综述了HiPIMS系统的电源特性（与脉冲发生相关）、放电参数（脉宽、放电电压、电流、频率等）和放电空间（分为阴极靶和鞘层区、电离区域、体等离子体区、以及阳极等离子体和衬底区）中所涉及放电特征的物理本质及其解析，这将有助于加强对HiPIMS技术物理机制的深入理解，推进该技术在实际工业中的应用。
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单位北京印刷学院; 海南大学
