D3He爆推靶质子源优化模拟研究

作者:徐秋月; 周佳欣; 单连强*; 田超; 杨祖华; 张天奎; 王为武; 滕建; 邓志刚; 袁宗强; 张锋; 齐伟; 刘东晓; 范全平; 魏来; 周维民; 谷渝秋
来源:强激光与粒子束, 2022, 34(12): 50-56.
DOI:10.11884/HPLPB202234.220199

摘要

了在百kJ高功率激光装置上建立D3He质子照相平台,采用一维辐射流体程序Helios-CR对D3He爆推靶质子产生进行了模拟,综合考虑多种因素给出在百千焦高功率激光装置上开展质子照相所需要的激光和靶球建议参数。结合激光装置现有条件,分析了在1015 W/cm2左右激光强度下D3He质子产额随靶球半径、激光强度、充气压力和SiO2球壳厚度等参数的变化规律,给出了靶球半径300μm,内充D3He气体压强1.8 MPa,SiO2球壳厚度3.5μm左右等优化参数,预计此条件下D3He质子产额可达109~1010。通过模拟得到的质子产额变化规律,为质子照相平台的正式建立和实验参数选取提供了参考。

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