含K2SiF6电解液对钛合金膜层组织与亲水性的影响

作者：梅雁骏; 马凤仓; 康彬彬; 刘磊

来源：广州化学, 2023, 48(01): 42-50.

DOI：10.16560/j.cnki.gzhx.20230102

• 微弧氧化
• 六氟硅酸钾
• 亲水性测试
• 表面改性
• 膜层组织

TC4作为一种常见的钛合金材料，其表面改性具有较高的研究价值与较广阔的应用前景。采用微弧氧化法，用不同浓度的K2SiF6电解液制备镀件，并与不含K2SiF6的主电解液制备的镀件进行对比，探究K2SiF6-Na3PO4电解液体系对钛合金膜层组织及亲水性的影响。结果表明，电解液电导率与K2SiF6含量正相关，K2SiF6的添加增大了反应电压与膜层中TiO2金红石相的比例；相较于不含K2SiF6的主电解液，添加2 g/L、4 g/L的K2SiF6使得膜层的F含量分别增加0.56%、0.94%,Si含量分别增加0.64%、1.02%，孔隙率分别增大2.05%、7.23%，接触角分别减小19.9°、33.7°；4 g/L的K2SiF6添加量制备的镀件具有较强的亲水性。

• 单位
  上海理工大学