一种提高掩模条宽(CD)性能方法的研究

作者：刘维维; 尤春; 季书凤; 胡超

来源：电子与封装, 2018, 18(09): 42-48.

DOI：10.16257/j.cnki.1681-1070.2018.0103

• 相移掩模
• 条宽偏差
• 条宽偏差控制
• 干法蚀刻

提出了一种提高相移掩模(PSM)条宽偏差(CD MTT,mean to target)精度的方法。在掩模制备过程中,条宽偏差的影响因素很多,基板材质、图形以及工艺过程均会对CD MTT产生影响。研究中提出了减小掩模工艺过程中CD MTT的方法,通过对相移层蚀刻前金属层CD进行测量,评估计算对金属层进行加蚀刻,实现对PSM掩模最终CD MTT的控制。同时确定了图形密度对CD MTT的影响,有效地提高了PSM掩模条宽性能。

• 单位
  无锡中微掩模电子有限公司