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摘要
目的探讨精神分裂症患者及其未患病父母脑皮层形态的改变。方法纳入精神分裂症患者33例及其未患病生物学父母63名,招募对照组1(30名)与对照组2(28名)分别与患者组和父母组对照。采集高分辨率结构头颅磁共振成像数据,通过FreeSurfer软件计算脑皮层体积、厚度、表面积、曲率及数个皮层下结构体积,分别比较患者组和父母组与各自对照组间的差异。结果患者组左半球前扣带回中部、枕中回、岛下沟、枕颞沟外侧,右半球枕颞回外侧、颞中回、岛上沟、颞下沟和双侧半球后扣带回背侧、颞上沟脑区皮层厚度较对照组1下降(均P<6.0×10-4,经Bonferroni校正);协方差分析示父母组与对照组2相比,左半球近中央沟、额下回三角区、额中回、枕极、脑岛环状沟上段、额下沟、枕中及月状沟、眶沟外侧,以及右半球枕中回、外侧裂后段、中央前回下部脑区皮层厚度下降(均P<0.05),但经多重比较校正后组间差异均无统计学意义(均P>6.0×10-4)。结论皮层厚度可作为精神分裂症患者皮层形态改变的特异性指标,并存在一定的遗传性。
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