摘要

As_(40)Se_(60)硫系玻璃基底沉积红外光学薄膜存在牢固性不足的缺点,以膜层牢固性为研究对象来解决膜层附着力问题。首先选择了合适的膜层材料,完成了膜系的设计及优化;然后以沉积温度为影响因素进行单因素试验,研究了 ZnS 连接层的镀制工艺和残余应力,采用无离子源辅助的办法降低了连接层的残余应力,提高了膜层附着力;最终解决了较高温度下的薄膜脱膜问题,研制了一种透过波段为 8~12μm 的红外增透膜,并确定了镀制工艺运用于实际生产。所制备的薄膜平均透过率为 98%、平均反射率为 0.6%,附着力、高低温、湿热实验满足 GJB2845-1995 标准中的要求。