随着光催化材料制备技术逐渐趋于成熟,给自清洁新材料的研制开发创造了很好的机会。文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用A、B涂层喷涂法在基片上制备纳米双成膜,研究了此制备工艺对自清洁和增透减反特性的影响。文章介绍的制备方法,为推广自清洁材料的应用,提供了重要的研究思路和依据。