基于非硅微加工技术的超疏水表面的设计和制造

作者：汪红; 李光杨; 杨卓青; 姚锦元; 丁桂甫

来源：纳米技术与精密工程, 2012, 10(3): 273-277.

DOI：10.3969/j.issn.1672-6030.2012.03.015

• 超疏水
• 非硅微加工
• 接触角
• 掩膜电镀

利用非硅微加工技术,在金属基底表面构建了由圆柱状金属镍组成的规则的微阵列结构,研究了微阵列的疏水性.利用正己烷溶解十八烷基三氯硅烷(OTS)配制成涂覆液,对微阵列进行低表面能物质涂覆.通过对比涂覆前后的静态超疏水性,研究了低表面能物质涂覆的作用.实验发现圆柱高度为5～30μm、直径为30～50μm、间距为15～50μm的微结构阵列在不涂覆OTS的前提下表现出了稳定的超疏水性.涂覆OTS虽然没有增加阵列结构的接触角,但是改善了微阵列在水流冲击下的疏水性.

• 单位
  上海交通大学; 微米/纳米加工技术国家级重点实验室