科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
利用射频磁控溅射技术,通过改变溅射功率,得到一系列Zr Nx纳米薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及接触角测量仪表征了薄膜的微观结构、表面形貌及润湿性能。结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的结晶性变好,在200W时XRD衍射峰强度最高。溅射功率的增加也使得薄膜表面形貌的颗粒尺寸增加。受原子阴影效应的影响,在溅射功率较低时薄膜表面颗粒独立生长,在溅射功率达到200W时由于溅射到衬底表面的粒子有足够的能量进行迁移,薄膜表面开始形成团簇。
-
单位长春大学
