微透镜阵列的制作及其在光场成像中应用的研究进展

作者：乌李瑛^*; 瞿敏妮; 付学成; 田苗; 刘民; 李进喜; 程秀兰

来源：半导体光电, 2020, 41(05): 611-631.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2020.05.002

• 微透镜阵列
• 光场
• 光场成像
• 超精密机械加工
• MEMS

文章综述了微透镜阵列制备技术的最新研究进展,并将这些制备方法分为直接法和间接法进行了对比分析。回顾了微透镜在光场成像应用中的研究进展,指出目前该领域的研究重点是光场相机设计的新思路及提高分辨率的相应模型算法。

• 单位
  上海交通大学