溅射电流和时间对钼薄膜电学性能的影响

作者：范海波; 孙院军; 赵宝华; 安耿; 刘仁智

来源：中国钼业, 2012, (01): 15-17.

DOI：10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2012.01.003

• 钼薄膜
• 导电性
• 磁控溅射
• 溅射工艺 molybdenum film
• electronic property
• magnetic sputtering
• sputtering parameter

钼薄膜作为电极和布线材料在太阳能电池和薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。磁控溅射作为一种制备钼薄膜的主要手段,其溅射工艺对钼薄膜的性能有着重要的影响。本文通过改变溅射电流和时间制备了具有不同形貌的钼薄膜,并对其电学性能进行了比较,从而得到了较为适合的钼薄膜溅射工艺。

• 单位
  西北大学; 金堆城钼业股份有限公司