反应溅射Nb-Si-N薄膜的微结构与力学性能

作者：刘艳; 董云杉; 戴嘉维; 李**

来源：上海交通大学学报, 2006, 40(10): 1763-1766.

DOI：10.3321/j.issn:1006-2467.2006.10.030

• Nb-Si-N薄膜
• 反应溅射
• 微结构
• 力学性能

在Ar、N2和SiH4混合气体中,通过反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Nb-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、TEM、AFM和微力学探针表征了复合薄膜的成分、相组成、微结构和力学性能.结果表明,采用反应磁控溅射技术通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Nb-Si-N薄膜.少量Si的加入使薄膜得到强化,并在Si含量为3.4%时达到硬度和弹性模量的最高值,分别为53 GPa和521 GPa.进一步增加Si含量,薄膜的硬度和弹性模量逐步降低.Nb-Si-N薄膜力学性能的提高与其晶体缺陷的增加有关.

• 单位
  上海交通大学; 金属基复合材料国家重点实验室