喷嘴-平板直流电晕放电中的OH(A~2Σ~+→X~2Π,0-0)光谱研究

作者：高翔; 余权; 吴祖良; 谭永杰; 沈旭; 骆仲泱; 岑可法

来源：强激光与粒子束, 2007, (04): 700-704.

• OH自由基
• 发射光谱
• 电晕
• 自由基
• 放电
• 淬灭 OH radical
• Emission spectrum
• Corona
• Radical
• Discharge
• Quenching

为更深入地认识电晕放电低温等离子体中自由基的生成机理,以发射光谱测量为基础并结合背景气体淬灭率影响,研究了常压下喷嘴-平板电晕自由基簇射过程中放电参数、背景气体、电极气成分等因素对OH(A2Σ+→X2Π,0-0)发光的影响。结果表明:在放电参数影响中,放电电压及放电电流都会影响OH生成量,OH发光随功率增加而大大增强;在加湿氮气直流电晕放电中有明显的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱存在,但加湿空气条件下OH生成较少;载气增湿后OH生成量明显增多,而Ar和O2的存在分别增强和减弱了OH(A2Σ+→X2Π,0-0)发光,可能的原因是这两种物质影响了放电和OH(A2Σ+)的淬灭。

• 单位
  能源清洁利用国家重点实验室; 浙江工商大学