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摘要
采用激光刻蚀实现了BaTiO3薄膜上溅射Ag金属薄膜电极的图案化,并对激光刻蚀功率、激光刻蚀线间距以及点间距对图案微槽深度、刻蚀边缘整齐度和对底层BaTiO3的影响进行了研究。结果表明,图案刻蚀边缘整齐度随刻蚀功率先增大后减小,激光刻蚀功率为12 W时达到最优值,薄膜电极图案随刻蚀线间距以及点间距减小而刻蚀更加充分,在刻蚀线间距以及点间距达到0.03mm时可以获得具有理想刻蚀精度的图案,且对BaTiO3薄膜未造成损伤,为MLCC等薄膜电容器的低成本快速制备提供了一种新的思路。
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采用激光刻蚀实现了BaTiO3薄膜上溅射Ag金属薄膜电极的图案化,并对激光刻蚀功率、激光刻蚀线间距以及点间距对图案微槽深度、刻蚀边缘整齐度和对底层BaTiO3的影响进行了研究。结果表明,图案刻蚀边缘整齐度随刻蚀功率先增大后减小,激光刻蚀功率为12 W时达到最优值,薄膜电极图案随刻蚀线间距以及点间距减小而刻蚀更加充分,在刻蚀线间距以及点间距达到0.03mm时可以获得具有理想刻蚀精度的图案,且对BaTiO3薄膜未造成损伤,为MLCC等薄膜电容器的低成本快速制备提供了一种新的思路。
