TFT-LCD边缘彩点Mura解析和改善

作者:陈帅; 张显; 王文强; 陈卓; 魏永辉; 郭剑伟; 贺新钢
来源:光电子技术, 2022, 42(02): 154-158.
DOI:10.19453/j.cnki.1005-488x.2022.02.014

摘要

通过对各项不良改善措施的验证,总结出包括画素设计、制程、材料等可以对边缘彩点Mura进行有效改善的措施。将边缘彩点Mura不良发生率由35%降低到0,有效的提高了产品的良率。

  • 单位
    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

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