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摘要
采用激光熔覆工艺在TC4合金表面制备了TiAl涂层，研究TC4基体与TiAl涂层在600、800、900、1000 ℃下循环氧化50 h的氧化行为，分析其氧化动力学行为、氧化膜的物相、表面形貌及元素分布，并对其高温氧化机理进行了阐述。结果表明：涂层氧化动力学曲线近似符合抛物线规律，且单位氧化增重和氧化速率均比TC4基体小。TiAl涂层在600、800、900 ℃和1000 ℃下的氧化增重分别为TC4基体的12.5%、20%、55.6%和35.7%。TiAl涂层的氧化产物主要为Al_(2)O_(3)和TiO_(2)，在600～900 ℃之间氧化物均匀致密无破损，1000 ℃下出现氧化皮的破损剥落。TiAl涂层的氧化极限较TC4基体至少提高了300 ℃，表现出优异的高温抗氧化性能。
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