应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究

作者：黄腾超; 沈亦兵; 陈海星; 娄迪; 侯西云

来源：光学仪器, 2004, (02): 151-155.

• K9玻璃
• 湿法刻蚀
• 微光机电系统
• 抗腐蚀
• 掩膜 K9 glass
• wet etching
• MOEMS
• anti-erode
• mask

介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。

• 单位
  现代光学仪器国家重点实验室