离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究

作者：齐双阳; 刘冬梅^*; 朱忠尧; 张于帅; 韩克旭

来源：长春理工大学学报(自然科学版), 2023, 46(02): 25-31.

• 薄膜
• 离子束溅射
• 膜厚均匀性
• 修正挡板
• 窄带滤光片

光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时，由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移，影响有效镀膜区域。分析了离子束溅射膜厚分布特点，根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型，通过修正Mask挡板来改善Ta2O5、SiO2的膜厚均匀性。经过多次修正Mask实验，最终在12英寸的基板上，分别将Ta2O5和SiO2的主Mask挡板在径向方向每一点膜厚均匀性修到小于0.1%；辅Mask挡板将内圈和外圈的膜厚均匀性修到大于1.5%，且呈线性关系。制备中心波长分别为1 295.56 nm、1 300.05 nm、1 304.58 nm、1 309.14 nm的Lan-WDM(细波分复用)滤光膜，测得光谱透射率有效镀膜区面积相比原来分别增大了2.01倍、2.20倍、2.25倍、2.04倍，提高了滤光膜的生产效率。

• 单位
  北京空间机电研究所; 苏州浩联光电科技有限公司; 长春理工大学