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摘要
为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性，以降低材料成本和传输损耗，基于相位掩模板法，在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证。建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程，分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响；采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FBG反射率和3dB带宽的影响，为WFBG刻制提供理论依据。采用248nm紫外准分子激光器在常规单模光纤上刻制WFBG,分析相位掩模板长度、曝光能量、曝光频率，曝光次数对WFBG中心波长、反射率和3dB带宽的影响，制备出反射率和3dB带宽分别约为0.0016,0.10nm和0.00006,0.34nm两种窄宽的WFBG。结果表明，基于相位掩模板法由紫外准分子激光对常规单模光纤多脉冲曝光，能够稳定刻制WFBG。该研究对WFBG制备的材料选型提供了参考。
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