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摘要
用XPS分析绝缘样品时,启用样品磁透镜有可能引起谱峰位移和峰形畸变,其原因是磁透镜的磁场与双阳极铝窗发出的低能电子发生了相互作用,并使后者偏转,从而影响了到达样品表面起中和作用的低能电子的数量和分布.实验显示,用与不用磁透镜所造成的谱峰差异,有可能被用来研究绝缘样品的光导现象.
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用XPS分析绝缘样品时,启用样品磁透镜有可能引起谱峰位移和峰形畸变,其原因是磁透镜的磁场与双阳极铝窗发出的低能电子发生了相互作用,并使后者偏转,从而影响了到达样品表面起中和作用的低能电子的数量和分布.实验显示,用与不用磁透镜所造成的谱峰差异,有可能被用来研究绝缘样品的光导现象.
