ChCl-Urea低共熔溶剂中电沉积锌的工艺研究

作者：孙海静; 杨帅; 王贺; 徐飞; 杜俊荣; 王媛媛; 毕铭雪; 从铭玥; 孙杰^*

来源：电镀与精饰, 2021, 43(11): 23-28.

• 低共熔溶剂
• 离子液体
• 电沉积
• 锌
• 耐蚀性

在摩尔比为1∶2的氯化胆碱-尿素低共熔溶剂(ChCl-Urea DES)中于纯铜基体表面制备了锌镀层。通过调整沉积电位、沉积温度和锌盐配比等参数,采用正交实验优化了电沉积工艺,并通过动电位极化曲线对比研究了ChCl-Urea DES和传统水溶液中锌镀层的耐蚀性能。采用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射技术(XRD)对ChCl-Urea DES中锌镀层的微观形貌和物相组成进行了表征。结果表明,在摩尔比为1∶2的ChCl-Urea DES中锌电沉积的最佳方案为沉积电位1.0 V、锌盐配比2ZnCl2∶1ZnO(摩尔比)、沉积温度70℃。在此方案下可获得均匀平整,颗粒致密的锌镀层,且其耐蚀性与传统水溶液相当。SEM表明,锌镀层是由排列紧密的六方形立体结构的灰白色颗粒物质构成。XRD表明,锌镀层主要由六方结构的多晶锌组成。

• 单位
  环境与化学工程学院; 沈阳理工大学