室温常压溶液法合成烯丙基功能化的正六边形硅纳米晶体

作者：王晶; 孙树清

来源：中国科学:物理学 力学 天文学 , 2011, (09): 1041-1045.

• 纳米晶体
• 晶体硅
• 表面修饰 nanocrystal
• silicon crystal
• surface modification

室温常压下,以氢化铝锂为还原剂在溶液中还原烯丙基三氯硅烷和四氯化硅体系,制备了烯丙基功能基团修饰的正六边形硅单晶.采用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)和傅里叶变换红外光谱(Fourier Transform Infrared,FTIR)对产物进行表征.研究了硅晶体的尺寸分布、晶面取向及表面组成,推测了可能的反应机理.结果表明,三氯硅烷与四氯化硅浓度比为1:3时经过还原可生成尺寸为20~50nm,表面有烯丙基基团的(111)晶向的单晶硅.

• 单位
  国家纳米科学中心; 清华大学深圳研究生院