集成电路掩模分辨率增强技术

作者：华卫群; 周家万; 尤春

来源：电子与封装, 2020, 20(11): 66-69.

DOI：10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113

• 掩模
• 分辨率增强技术
• 相移掩模
• 光学邻近效应修正
• 光源掩模协同优化

随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。

• 单位
  无锡中微掩模电子有限公司