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摘要
为了实现光栅刻划机的超高精度定位,提出互补校准式方法实现高精度位移检测,以光栅尺作为纳米定位平台的定位测量装置,双频激光干涉位移测量系统作为测量基准对光栅尺测量误差进行补偿校准,提高光栅尺测量精度,从而达到精准定位。基于双频激光干涉的测量原理,推导了干涉位移计算公式、补偿公式,对超高精密测量光路进行搭建,并利用Edlen公式给出了一种有效的波长实时补偿方法,以提高位移测量精度。采用步进采样比对法验证系统的可行性,经过校准后的系统将精度从±0. 5μm提高到±0. 1μm,满足光栅刻划机精度检测需求。经过实验验证,提出的系统对纳米级定位检测是可行的。
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