随着芯片技术的快速发展,对光刻胶性能的要求越来越高。正性光刻胶因为具有分辨率等方面的优势,得到越来越多的重视。丙二醇甲醚醋酸酯作为正性光刻胶的溶剂之一,对正性光刻胶的性能有重要影响。研究和开发高性能丙二醇甲醚醋酸酯成为产业界的重要课题之一。本文介绍了工业级丙二醇甲醚醋酸酯的合成、半导体级丙二醇甲醚醋酸酯的提纯以及提纯后产品的检测。提纯主要采用精馏,纳滤,离子交换等方法。最终得到的产品经检测后产品的性能优于SEMI G4标准。
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